光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。下面，微谱介绍关于光刻胶配方分析，光刻胶成分分析相关知识。
一、光刻胶配方分析
（1）紫外负性胶配方
1.环化聚异戊二烯橡胶
主要原料：高聚物：环化聚异戊二烯橡胶。交联剂：2,6-双(4'-叠氮亚苄基)-4-甲基环己酮。溶剂：甲苯等芳香烃。添加剂：根据需要使用，包括少许增黏剂和防光晕染料。
2.聚乙烯醇肉桂酸酯
将精制的聚乙烯醇放入吡啶中溶胀，滴加由肉桂酸与二氯亚砜反应制得的肉桂酰氯进行酯化反应。经洗涤、过滤、干燥后，与配胶组成中的其余组分混合，即得光刻胶成品。
3.聚乙烯氧乙基肉桂酸酯
由氯乙醇分子间脱水制得二氯二乙基醚，然后在碱性条件下二氯二乙基醚脱一分子氯化氢，得到2-氯乙基乙烯基醚，2-氯乙基乙烯基醚再与肉桂酸钠发生酯化，得到聚合单体，***后单体聚合得成品。
（2）紫外正性胶配方
主要原料：感光剂：2-重氮-1,2-萘醌-5-磺酰氯。成膜剂：成膜剂是正胶的基本成分，它对光刻胶的黏附性、抗蚀性、成膜性及显影性均有影响，常用的为酚醛树脂.
二、光刻胶成分分析
由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
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